Aluminiumoxide gasverdeelplaat voor CVD/PVD douchekop
De gasverdeelplaat (douchekop) van St.Cera is nauwkeurig gefreesd uit hoogwaardig 99,8% aluminiumoxidekeramiek. De plaat is voorzien van een reeks microgaatjes (diameters 0,3–1,5 mm) die zorgen voor een uniforme gasstroom over het waferoppervlak tijdens CVD-, PVD- of ALD-processen. De hoge diëlektrische sterkte (>15×10⁶ V/m) en plasmabestendigheid van de plaat maken deze essentieel voor de depositie van dunne halfgeleiderfilms.
Specificaties:
| Eigendom | Waarde |
| Materiaal | 99,8% Al₂O₃ of SiC |
| Diameter | 100 – 1500 mm (rond) of rechthoekig |
| Dikte | 5 – 20 mm |
| Gatdiameter | 0,3 – 1,5 mm |
| Gatenpatroon | Aangepast (driehoekig, vierkant, radiaal) |
| Vlakheid | ≤10 μm over het gehele oppervlak |
| Oppervlakteruwheid | Ra ≤0,6 μm (gaszijde) |
| Open oppervlakteverhouding | 5–15% |
Toepassingen:
PECVD douchekopplaten
ALD-gasinjectoren
Gasverdeelplaten voor etskamers
MOCVD-reactorcomponenten
Productie:
Aluminiumoxide substraat vlak geslepen → CNC-boren met diamantgecoate gereedschappen (gatpositietolerantie ±0,02 mm) → ontbramen → ultrasoon reinigen → Klasse 100 verpakking.
Kwaliteitscontrole:
Elke plaat wordt 100% gecontroleerd op gatgrootte (zichtsysteem), vlakheid (laserinterferometer) en uniformiteit van de gasstroom (drukmeting). Geen microscheurtjes onder een microscoop met 20x vergroting.
Voordelen ten opzichte van metalen platen:
Geen metaalverontreiniging in dunne films
Lagere deeltjesvorming (geen corrosieschilfers)
Bestand tegen agressieve reinigingsplasma's (CF₄, NF₃).
Aangepaste functies:
Gaskanalen aan de achterzijde, verzonken gaten, randafdichtingen en verschillende materiaalkwaliteiten (SiC voor een hogere thermische geleidbaarheid, Y₂O₃-coating voor plasmabestendigheid).
Wij verzorgen CAD-verificatie en stromingssimulatie voorafgaand aan de productie.
